В настоящее время существуют две основные техники травления:
— Химическое или “мокрое” травление.
— Йоно-плазменное или “сухое” травление.
В процессе химического травления используются различные кислоты. Плавиковая кислота (HF) используется для травления диоксида кремния, фосфорная H3PO4 – для удаления нитрида кремния и металлов, азотная, уксусная или плавиковая кислоты – для травления поликремния, гидроксид калия – для удаления кремния. Мокрое травление сильно зависит от технологических параметров, таких как время и температура и представляет собой потенциальную угрозу здоровью.
Для йоно-плазменного травления используются ионизированный газ, химическая активность которому придаётся плазмой получаемой с помощью радиочастотного излучения. Этот процесс довольно сложен, даже несмотря на то, что он сильно похож на напыление, и требует скрупулезного соблюдения уровней давления, потока газа, его состава и интенсивности радиочастотного излучения. Данный вид травления используется повсеместно в субмикронных технологиях по причине того, что он не создаёт подтрава.
Загрузка...
